International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) 2026
日時: 2026年9月28日(月)-30日(水)
会場: 熊本城ホール
熊本県熊本市中央区桜町3番40号
参加方法: 登録制
詳細はホームページ及びIISBイベントページをご覧ください。
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本イベントにて、フラウンホーファーIISB(集積システム・デバイス技術研究所)の研究者が講演を行います。
<講演詳細>
タイトル: Multi-phase-field Modeling of Thin-film Silicidation
講演者: Christophe Pixius 他(Fraunhofer IISB, 集積システム・デバイス技術研究所)
日時: 2026年9月29日(火) 16:00 - 18:00
場所:Room A3+A4(3階)
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フラウンホーファー日本代表部