イベント

日時: 2011年12月5日(月) 14:30-18:50
場所: ホテルニューオータニ　おり鶴・悠の間（東京）
参加方法：参加費無料
                 日英同時通訳付
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フラウンホーファーIPA (生産技術・オートメーション研究所)、フラウンホーファーCNT (ナノ電子技術センター)、フラウンホーファーIZM（信頼性・マイクロインテグレーション研究所）のASSID (All Silicon System Integration Dresden)が半導体関連の研究開発について講演します。

＜プログラム＞

14:30
開会挨拶
Wolfgang Freese　ザクセン州経済振興公社

14:35
『ザクセン州のビジネス環境』
Karin Heidenreich　ザクセン州経済振興公社

14:50
『ザクセン州の半導体産業の動向　―　新たな技術革新』
Gitta Haupold, Silicon Saxony

15:10
“3D Heterogeneous Integration - Opportunity  for  Smart System Integration“
Jürgen Wolf, Fraunhofer ASSID

15:30
"New technologies for today's challenges - Research at the Fraunhofer CNT"
Dr. Benjamin Uhlig, Fraunhofer CNT

15:50
“New Energy Efficient Waste Gas and Waste Water Treatment Technologies”
Dr. Horst Reichardt, DAS Environmental Expert

16:10
『省エネルギーを目指した日立の有機エレクトロニクスへの取り組み；有機TFTとOLED』
芝健夫　荒谷介和　日立製作所

16:30 コーヒーブレイク

16:50
“Cleanroom Suitable Materials”
Dr. Udo Gommel, Fraunhofer IPA

17:10
„New recycling Strategies for Hightech and Greentech Waste - made in Saxony”
Dr. Wolfram Palitzsch, Loser Chemie

17:30
『凸版印刷におけるエネルギー関連商材の取組み』
友野孝夫　凸版印刷

17:50
『ドレスデン視察の報告』
牧野豊　九州 半導体・エレクトロニクスイノベーション協議会

18:10
“Newest OLED Developments”
Dr. Philipp Wellmann, Novaled Japan

18:30
“Intelligent Fluids for Microelectronics”
内田学　JNC

18:50 閉会挨拶

19:00 懇親会　翔の間

• アクセス

事前登録制になっておりますので、下記の参加申込書でご登録お願い申し上げます。