イベント

フラウンホーファーIKTS ワークショップ

「窒化アルミニウム・窒化シリコン用スクリーン印刷ペースト 
~次世代のパワーエレクトロニクスに向けて~」

日時:2014年1月31日(金)10:00 - 12:00
会場:東京ビッグサイト、会議棟8F 801号室
参加費:無料(事前登録が必要です)
言語:英語(日本語通訳付き)

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フラウンホーファーIKTS(セラミック技術・システム研究所)Dr. Ebersteinがナノテク2014開催に併せ、厚膜ペースト、ペーストシステムに関する最新研究動向についてお話します。

グリーンエネルギーやEモビリティの普及というグローバルなトレンドを反映し、パワーエレクトロニクスは様々な製品・システムの基盤技術となりつつあります。窒化アルミニウム(AlN)は新材料であるSiCと熱膨張の観点から理想的な組み合わせです。フラウンホーファーIKTSの窒化アルミニウムペーストシステムはフタル酸ジブチルを取り除き、REACHの認可も得ています。さらにAlN用の新しい高抵抗ペーストも開発されています。窒化アルミニウムと同レベルの熱伝導性をもち、かつより高い耐熱衝撃性や破壊靱性を示す窒化珪素は、次世代パワーエレクトロニクスに利用できる優れたセラミック基板となります。フラウンホーファーIKTSで開発が進む窒化珪素(Si3N4)用厚膜ペーストについても、ご紹介します。

参加者の皆様と活発な議論ができることを楽しみにしています。


<お申し込み・お問い合わせ>

お名前、ご所属、メールアドレスを英語でご記入の上、1月22日(水)までに以下へご送信の上お申し込みください。

Fanny Pohontsch
fanny.pohontsch@ikts.fraunhofer.de

セミナーの内容に関しましても、上記までお問い合わせください。